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            • 國家高技術研究發展計劃(863計劃)

              國家高技術研究發展計劃(863計劃)引導項目“超大規模集成電路制造用鋁和鉭濺射靶材產業化關鍵材料技術研究”項目,列入國家高技術研究發展計劃(863計劃)引導項目..

              更多 2020-03-10

            • Hitach SU3500掃描電鏡

              HitachSU3500掃描電鏡主要是利用二次電子信號成像來觀察金屬或非金屬材料的表面形態。該儀器對樣品尺寸及形狀沒有限制,可直接觀察大試樣的原始表面,粗糙表面..

              更多 2020-03-06

            • 氣體分析儀器介紹

              在半導體領域中,磁控濺射鍍膜工藝對靶材所含的氣體和夾雜異常敏感,因為氣體和夾雜會導致等離子體異常放電和顯微顆粒的噴射,破壞和降低濺射薄膜質量,導致薄膜缺陷增加,..

              更多 2020-03-06

            • HIAC 9703+ 液體顆粒計數器(LPC)

              HIAC 9703+ 液體顆粒計數器(LPC)是微粒計數領域質量控制和研究應用中的佼佼者。當液體中的微粒通過窄小的檢測區時,由于被不溶性微粒..

              更多 2020-03-06

            • VG9000輝光放電質譜儀(GDMS)

              輝光放電質譜法作為一種固體樣品直接分析技術 ,廣泛應用于金屬、半導體等材料的痕量和超痕量雜質分析。隨著制樣方法和離子源裝置的改進 ,GDMS..

              更多 2015-02-05

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